半导体的制造过程

实现突破的地方。

世界上最先进的制造工艺诞生出世界上最先进的技术。在芯片制造过程中,需要对先进的技术、设备和分析进行原子级精度的控制。

 

未来的技术始于Fab厂

从技术上来说,半导体Fab厂(以下简称为”Fab厂”)是生产微芯片的地方。但实际上,半导体制造是最令人惊叹的协作生产过程,整个过程有成千上万台工艺设备在运行等离子体、激光器、超精密光学器件、离子加速器和先进机器人,所有这些都同步工作,制造出数十万个晶圆,包含数十万个芯片。

Fab厂里最重要的地方是无尘室(主要工作是确保产品洁净),因为一粒病毒般大小的微粒就有可能毁掉整个微电路。

 

到 2020 年,一家
先进的Fab厂成本为 150-200 亿美元1

 

硅晶圆:所有半导体不可或缺的基础

硅晶圆是用纯抛光硅制成的超薄晶圆,是微芯片的基础。每个晶片都是许多极薄的薄膜堆叠而成的,每张薄膜都设计有图案来形成晶体管和微电路,然后切割成各个电脑芯片。

由于硅的导电能力远远高于其他材料,因此,对于速度要求极高的芯片来说,硅片是决定性能的关键所在。没错,硅可能是地球上第二常见的元素(仅次于氧),但它是一种非常重要的物质。

 

谁曾想到,制造过程实际上也可以如此令人振奋?

如果未曾亲自穿上无尘衣,在空气洗尘室洗尘,然后进入Fab厂里面去看看,就很难想象制造微芯片有多么复杂。制造微芯片需要使用世界上最复杂(且最昂贵)的一些设备,将数百个、数百万个甚至数十亿个晶体管封装到指甲般大小的硅芯片中。

这个过程的每一步都在微观层面进行,打造出可能包含多达 90 层复杂电路的三维结构。

 

无尘室的洁净度是
医院手术室的 100,000 倍2

制造完美的芯片:一个精密的过程

沉积

制造半导体微电路的第一步,是将导体和绝缘体沉积到硅片上。需要在许多超薄层(每一层的直径比红细胞小 500 倍)中完成这步工作。

刻印和蚀刻

用称为光刻的工艺,通过纳米级的精细工作将错综复杂的晶体管模型置于晶片表面上。通过蚀刻消除要进行连接的区域(蚀刻工艺会选择性地从晶片表面去除材料)。

材料

沉积到硅片上的材料要么是钨、铝和铜等导体,要么是绝缘体(包括各种形式的二氧化硅、氮化硅及其他物质),具体取决于芯片的用途。

控制和测试

虽然无尘室具有极高的洁净度,每个处理器仍必须经过测量和检验,以确保其中的上亿个元件没有缺陷。只要微电路的一根电线沾上一粒微尘,整个芯片就可能报废。

封装

在微芯片周围打造保护结构并连接到电路板的过程称为“封装”。随着芯片变得越来越小但又越来越强大,封装工艺近年来有了巨大进步。                                                    

“这里好像我想象中的天堂……只不过有更多的机器人。”

Jack

1 EE Times,2012 年
2 OR Today,2012 年